CMP en reiniging
Welke reden is juist waarom deeltjes die eenmaal zijn losgekomen in een alkalische reinigingsvloeistof zoals SC-1 moeilijk opnieuw aanhechten?
- AOmdat de viscositeit van de reinigingsvloeistof zeer hoog is
- BOmdat waferoppervlak en deeltjes dezelfde lading krijgen en elkaar afstoten
- COmdat de deeltjes in de reinigingsvloeistof oplossen en verdwijnen
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: B. Omdat waferoppervlak en deeltjes dezelfde lading krijgen en elkaar afstoten
In een alkalische vloeistof laden zowel het siliciumoppervlak als het oppervlak van veel deeltjes (silica, nitriden enz.) negatief op (de zetapotentiaal wordt negatief). Ladingen met hetzelfde teken stoten elkaar af, zodat deeltjes die van het oppervlak zijn losgekomen moeilijk opnieuw aanhechten. In zure vloeistof verschilt het teken van de zetapotentiaal daarentegen per deeltje en treedt opnieuw aanhechten gemakkelijker op. Dit is een van de redenen waarom SC-1 effectief is bij het verwijderen van deeltjes.