CMP與清洗

使用溶有臭氧的超純水(臭氧水)進行清洗的主要目的為下列何者?

  1. A沉積金屬膜
  2. B研磨晶圓
  3. C氧化分解並去除有機物
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正確答案:C. 氧化分解並去除有機物

溶有數至數十ppm臭氧的臭氧水具有強氧化力,在常溫下即可氧化分解有機物,或在矽表面形成薄氧化膜。使用後會分解為氧氣,廢液處理容易,與大量使用硫酸和雙氧水的SPM等相比,可減少藥液用量與CO2排放,作為環境負荷較小的清洗方式而被採用。也應用於與稀釋氫氟酸交替使用的清洗。

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