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차세대 EUV 노광 장비로 개발된 「High-NA EUV」의 특징으로 올바른 것은?

  1. A투영 광학계의 개구수를 0.33에서 0.55로 키워 해상도를 높였다
  2. B노광 파장을 193 nm로 길게 했다
  3. C마스크 없이 노광한다
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정답: A. 투영 광학계의 개구수를 0.33에서 0.55로 키워 해상도를 높였다

기존 EUV 노광 장비의 개구수는 0.33이지만, High-NA EUV에서는 0.55로 키워 해상도를 약 1.7배 높이고, 피치 20 nm대 초반의 패턴을 1회에 노광할 수 있게 했습니다. 파장은 같은 13.5 nm입니다. 한편 초점 심도가 얕아지고, 방향에 따라 축소율이 달라 노광할 수 있는 영역(샷)이 기존의 절반이 되는 등의 제약도 있습니다. ASML이 개발했으며 1대에 약 5천억 원대로 알려져 있습니다.

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