포토리소그래피
EUV 마스크에서 다층막 내부에 묻힌 결함이 문제가 되는 이유로 올바른 것은?
- A마스크가 무거워지기 때문
- B반사광의 위상이나 세기가 흐트러져 웨이퍼 위 패턴의 결함으로 전사되기 때문
- C마스크의 색이 변하기 때문
정답과 해설 보기
정답: B. 반사광의 위상이나 세기가 흐트러져 웨이퍼 위 패턴의 결함으로 전사되기 때문
EUV 마스크의 다층막 속이나 아래에 수 nm의 요철이나 이물질이 있으면 그 위로 쌓인 수십 층이 흐트러져 반사광의 위상과 세기가 변합니다. 수 nm 정도 높이의 흐트러짐도 웨이퍼에 전사되어 결함이 됩니다. 표면에서는 발견하기 어렵기 때문에 EUV 빛을 사용한 전용 검사 장비(화학선 검사)가 개발되었고, 결함의 위치를 피하도록 흡수체 패턴을 옮겨 배치하는 방법도 사용됩니다.