Résine dont les zones exposées se dissolvent au développement et sont éliminées. À l'inverse, une résine dont les zones exposées subsistent est dite négative.
Nom japonais: ポジ型フォトレジスト
« Résine photosensible positive » apparaît dans 1 questions d'entraînement réparties sur 1 thèmes, dont Lithographie.
Domaine: Lithographie
Réponse : B. Les zones exposées sont dissoutes et éliminées au développement
Dans une résine positive, les zones exposées deviennent solubles dans le développeur et sont éliminées au développement ; c'est donc le motif des zones protégées de la lumière par le masque qui subsiste. Les exemples types sont les résines novolaques pour la raie i et les résines à amplification chimique pour le KrF et l'ArF, développées dans un développeur alcalin (solution aqueuse de TMAH). Leur excellente résolution en fait le courant dominant actuel. Les résines où les zones exposées subsistent sont négatives, sur le même principe que le négatif et le positif en photographie.
TMAH Couche antireflet (BARC) EUV High-NA Fenêtre de procédé Laser excimère ArF Lithographie à immersion Lithographie EUV Lithographie par nano-impression Masque à décalage de phase Multi-patterning