Fotomasker dat de fase van licht door naburige openingen verschuift en lichtinterferentie benut om het contrast en de resolutie van het beeld te verhogen.
Japanse benaming: 位相シフトマスク
“Fasenverschuivingsmasker (phase-shift mask)” komt voor in 1 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Lithografie.
Vakgebied: Lithografie
Antwoord: A. De fase van licht dat door naburige openingen gaat veranderen en interferentie gebruiken om resolutie en contrast te verhogen
Een phase-shift mask verschuift de fase van licht dat door een deel van het masker gaat 180°, zodat de amplitude op de grens van licht van naburige patronen wordt opgeheven, donkere delen donkerder worden en het contrast aan de patroongrenzen toeneemt. Er zijn het Levenson-type, waarbij de fase van naburige patronen afwisselend wordt omgekeerd, en het halftone-type, waarbij het lichtblokkerende deel een fase-omkerende film (zoals MoSi) is die een beetje licht doorlaat; het halftone-type wordt veel gebruikt bij ArF-belichting.
Een phase-shift mask verschuift de fase van licht dat door een deel van het masker gaat 180°, zodat de amplitude op de grens van licht van naburige patronen wordt opgeheven, donkere delen donkerder worden en het contrast aan de patroongrenzen toeneemt.
Wat is het juiste doel van een phase-shift mask?Antireflectiecoating (BARC) ArF-excimeerlaser Chemisch versterkte resist (CAR) EUV-belichting Fotomasker (reticle) Fotoresist High-NA EUV Immersielithografie Line edge roughness (LER) Multi-patterning