Was ist Phasenschiebermaske?
Photomaske, die die Phase des Lichts durch benachbarte Öffnungen verschiebt und über Interferenz Bildkontrast und Auflösung verbessert.
Japanische Bezeichnung: 位相シフトマスク
Fachgebiet: Lithografie
Verwandte Begriffe
ArF-Excimerlaser Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist EUV-Lithografie Fotolack High-NA-EUV Immersionslithografie Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie