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Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques)

Quels gaz précurseurs sont utilisés pour introduire des impuretés de type p (bore) ?

  1. ALe diborane (B2H6) et le trifluorure de bore (BF3)
  2. BLa phosphine (PH3)
  3. CL'arsine (AsH3)
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Réponse : A. Le diborane (B2H6) et le trifluorure de bore (BF3)

L'introduction du bore utilise le diborane (B2H6) et le trifluorure de bore (BF3). Le BF3 sert de gaz de source d'ions pour l'implantation ionique ; outre B⁺, il fournit aussi BF2⁺, plus lourd, qui permet une implantation peu profonde. Le diborane est souvent utilisé pour incorporer du bore au film pendant la CVD ou la croissance épitaxiale. La phosphine et l'arsine sont les précurseurs du phosphore et de l'arsenic, impuretés de type n.

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