Welk voordeel is juist van thermische oxidatie in een oxiderende atmosfeer met hoge druk?

Antwoord: B. Zelfs bij lage temperatuur kan snel worden geoxideerd, zodat onzuiverheidsdiffusie door warmte kan worden onderdrukt

Bij hogere druk van het oxidatiemiddel neemt de hoeveelheid die in de oxidefilm oplost evenredig met de druk toe, zodat de oxidatiesnelheid (met name de parabolische snelheidsconstante) stijgt. Bij bijvoorbeeld 10 atmosfeer wordt de snelheid ongeveer 10 keer zo hoog, en dezelfde dikte wordt verkregen bij een veel lagere temperatuur. Onzuiverheidsdiffusie door warmte en het ontstaan van defecten zoals oxidatiegeïnduceerde stapelfouten kunnen worden onderdrukt, en het is gebruikt voor onder meer vermogenscomponenten die dikke oxidefilms nodig hebben.