Lithographie
Quelle est la principale raison pour laquelle les dégazages de la résine (outgassing) ont été considérés comme problématiques en lithographie EUV ?
- AParce que les gaz augmentent toujours la sensibilité de la résine
- BParce qu'ils risquent de se déposer sur l'optique (miroirs) sous vide, de la contaminer et de réduire sa réflectivité
- CParce que les gaz refroidissent le wafer
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Réponse : B. Parce qu'ils risquent de se déposer sur l'optique (miroirs) sous vide, de la contaminer et de réduire sa réflectivité
La lithographie EUV se déroule sous vide, et l'exposition fait dégager de la résine des molécules carbonées et des produits de décomposition. S'ils se déposent sur les miroirs multicouches d'un équipement valant plusieurs dizaines de milliards de yens et provoquent une contamination carbonée notamment, la réflectivité baisse, même légèrement par miroir, et sur une dizaine de miroirs les performances de l'équipement chutent fortement. Les dégazages des résines EUV sont donc évalués et contrôlés au préalable, et l'intérieur de l'équipement est nettoyé à l'hydrogène.