Lithographie
D'après la formule de résolution R = k1 × λ / NA, quelle méthode permet d'améliorer la résolution (réduire R) ?
- ARaccourcir la longueur d'onde d'exposition et augmenter l'ouverture numérique (NA)
- BAllonger la longueur d'onde d'exposition et réduire la NA
- CAllonger la longueur d'onde d'exposition et augmenter la NA
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Réponse : A. Raccourcir la longueur d'onde d'exposition et augmenter l'ouverture numérique (NA)
D'après le critère de Rayleigh R = k1·λ/NA, pour réduire R, on raccourcit la longueur d'onde λ, on augmente l'ouverture numérique NA et on abaisse k1. Les sources sont passées par la raie g (436 nm), la raie i (365 nm), le KrF (248 nm), l'ArF (193 nm) puis l'EUV (13,5 nm), et la NA est passée d'environ 0,3 à 1,35 en immersion. Par exemple, en ArF à immersion (NA 1,35, k1 0,27), R ≈ 39 nm ; un pas plus fin exige le multipatterning ou l'EUV.