포토리소그래피
EUV 노광에서 레지스트에서 나오는 가스(아웃가스)가 문제시되어 온 주된 이유는?
- A가스가 레지스트의 감도를 반드시 높이기 때문
- B진공 중의 광학계(거울)에 부착되어 오염시키고 반사율을 떨어뜨릴 우려가 있기 때문
- C가스가 웨이퍼를 식히기 때문
정답과 해설 보기
정답: B. 진공 중의 광학계(거울)에 부착되어 오염시키고 반사율을 떨어뜨릴 우려가 있기 때문
EUV 노광은 진공 중에서 이루어지며, 노광에 의해 레지스트에서 탄소를 포함한 분자나 분해 생성물 등의 가스가 방출됩니다. 이것이 수천억 원짜리 장비의 다층막 거울 표면에 부착되어 탄소 오염 등을 일으키면, 1장당 약간이라도 반사율이 떨어지고 10장 가까이 쌓이면 장비 성능이 크게 떨어집니다. 그래서 EUV용 레지스트는 사전에 아웃가스 양이 평가·관리되며, 장비 내부도 수소로 세정됩니다.
- A. 아웃가스로 감도가 오르는 것이 문제가 아닙니다.
- B. 올바릅니다. 거울을 오염시켜 반사율을 떨어뜨릴 우려가 있습니다.
- C. 웨이퍼를 식히는 것이 문제가 아닙니다.