Lithografie
Was ist der Hauptgrund, warum bei der EUV-Belichtung aus dem Resist austretende Gase (Outgassing) als Problem angesehen werden?
- AWeil die Gase die Empfindlichkeit des Resists stets erhöhen
- BWeil sie sich an der Vakuumoptik (den Spiegeln) ablagern, diese verschmutzen und die Reflektivität senken können
- CWeil die Gase den Wafer kühlen
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Antwort: B. Weil sie sich an der Vakuumoptik (den Spiegeln) ablagern, diese verschmutzen und die Reflektivität senken können
Die EUV-Belichtung erfolgt im Vakuum, und durch die Belichtung werden aus dem Resist kohlenstoffhaltige Moleküle und Zersetzungsprodukte als Gase freigesetzt. Lagern sich diese auf der Oberfläche der Vielschichtspiegel der mehrere zehn Milliarden Yen teuren Anlage ab und verursachen etwa Kohlenstoffkontamination, sinkt die Reflektivität je Spiegel auch nur geringfügig, und durch den Stapel von fast zehn Spiegeln fällt die Leistung der Anlage stark ab. Daher werden Resists für EUV vorab auf Outgassing bewertet und kontrolliert, und das Anlageninnere wird mit Wasserstoff gereinigt.