Quel est l'avantage des résines contenant des oxydes métalliques, en développement pour la lithographie EUV ?

Réponse : A. Elles absorbent fortement la lumière EUV et offrent une bonne résistance à la gravure même en film mince

Les résines contenant des métaux comme l'étain ou le hafnium absorbent plusieurs fois plus la lumière EUV que les résines organiques ; elles réagissent avec une dose plus faible, et l'on espère réduire l'impact des fluctuations du nombre de photons (effets stochastiques). Leurs molécules petites offrent une bonne résolution, et leur forte résistance à la gravure permet de les utiliser comme masque même en film mince d'environ 20 nm, ce qui limite aussi l'effondrement des motifs fins. Des résines sèches déposées sous vide sont également en développement.