Lithographie

Quelle description de l'OPC (correction des effets de proximité optique) est correcte ?

  1. AEnduire une résine épaisse pour améliorer la résolution
  2. BNettoyer le masque pour éliminer les particules
  3. CCorriger au préalable les motifs du masque afin de réduire les écarts de forme après transfert
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Réponse : C. Corriger au préalable les motifs du masque afin de réduire les écarts de forme après transfert

Pour des motifs proches de la limite de résolution, la diffraction et les interférences de la lumière raccourcissent les extrémités de lignes (recul de fin de ligne), arrondissent les coins ou font varier la largeur des lignes selon la densité des motifs environnants. L'OPC anticipe ces déformations par simulation et ajoute aux extrémités des motifs du masque des formes auxiliaires comme des têtes de marteau ou des sérifs, ou ajuste finement les dimensions. Pour les masques avancés, les calculs d'OPC mobilisent des calculateurs de grande capacité.

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