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Implantation ionique

Quelle est la gamme de doses la plus proche de celle utilisée en implantation ionique pour la fabrication des LSI ?

  1. AEnviron 10³⁰ cm⁻² ou plus
  2. BEnviron 10¹¹ à 10¹⁶ cm⁻²
  3. CEnviron 10¹ à 10³ cm⁻²
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Réponse : B. Environ 10¹¹ à 10¹⁶ cm⁻²

On utilise environ 10¹¹ à 10¹³ cm⁻² pour l'ajustement de la tension de seuil, environ 10¹⁵ cm⁻² pour réduire la résistance de la source, du drain et de la grille, et 10¹⁶ cm⁻² ou plus d'hydrogène pour le Smart Cut, soit au total une gamme de plus de 5 ordres de grandeur. Une implantation de 10¹² cm⁻² introduit mille milliards d'ions par cm², mais cela ne représente qu'environ un millième du nombre d'atomes de surface. Contrôler cette large gamme avec une précision d'environ ±1 % est un atout de l'implantation ionique.

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