En pulvérisation magnétron, quel est le principal objectif des aimants placés derrière la cible ?

Réponse : C. Confiner les électrons près de la cible par le champ magnétique pour augmenter la densité du plasma et la vitesse de dépôt

Les aimants placés derrière la cible créent près de sa surface un champ magnétique perpendiculaire au champ électrique ; les électrons y restent piégés en décrivant des spirales, ce qui favorise l'ionisation du gaz et produit un plasma dense. On obtient ainsi une vitesse de dépôt élevée même à basse pression, environ 0,1 à 1 Pa, et l'échauffement de la plaquette par bombardement électronique diminue. La cible ne s'érode que dans les zones de fort champ, où se forme un sillon (érosion) ; on fait donc tourner les aimants pour améliorer le taux d'utilisation.