박막 증착(CVD와 PVD)
마그네트론 스퍼터링에서 타깃 뒷면에 자석을 두는 주된 목적은 무엇인가?
- A타깃을 냉각하기 위해
- B웨이퍼를 고정하기 위해
- C자기장으로 전자를 타깃 근처에 가두어 플라즈마 밀도를 높이고 성막 속도를 올리기 위해
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정답: C. 자기장으로 전자를 타깃 근처에 가두어 플라즈마 밀도를 높이고 성막 속도를 올리기 위해
타깃 뒷면에 자석을 두면 표면 가까이에 전계와 직교하는 자기장이 생겨 전자가 나선 운동을 하며 머무르므로, 가스의 이온화가 촉진되어 고밀도 플라즈마가 만들어집니다. 이에 따라 0.1~1 Pa 정도의 낮은 압력에서도 높은 성막 속도를 얻을 수 있고, 웨이퍼에 전자가 충돌해 생기는 가열도 줄어듭니다. 타깃은 자기장이 강한 부분만 깎여 홈(에로전)이 생기므로 자석을 회전시켜 이용 효율을 높입니다.