CMP et nettoyage

Quel problème la contamination métallique (fer, cuivre, etc.) de la surface des plaquettes provoque-t-elle ?

  1. AUne dégradation des caractéristiques et de la fiabilité, par baisse de la durée de vie des porteurs, de la tenue en tension de l'oxyde de grille, etc.
  2. BUn allègement de la plaquette
  3. CUne émission de lumière par la plaquette
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : A. Une dégradation des caractéristiques et de la fiabilité, par baisse de la durée de vie des porteurs, de la tenue en tension de l'oxyde de grille, etc.

Les impuretés métalliques comme le fer et le cuivre créent dans le silicium des niveaux profonds vers le milieu de la bande interdite qui agissent comme centres de recombinaison, réduisant la durée de vie des porteurs et augmentant les courants de fuite des jonctions ou les pixels blancs des capteurs d'image. Incorporées dans l'oxyde de grille, elles en réduisent la tenue en tension et la fiabilité. Le nettoyage maintient donc la contamination métallique à environ 10⁹ à 10¹⁰ atoms/cm² ou moins, et les impuretés métalliques des produits chimiques et de l'eau pure sont maîtrisées au niveau du ppt (une partie pour mille milliards).

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur CMP et nettoyage

  1. Quelle est la principale cause des fines rayures (scratches) produites à la surface des plaquettes en CMP ?
  2. Quelle méthode élimine l'oxyde natif ou autres films de surface sans liquide, afin d'éviter l'effondrement des structures fines ?
  3. Quelle combinaison d'étapes utilisant le CMP est correcte ?
  4. Comment appelle-t-on l'opération consistant à racler la surface du tampon de polissage de CMP avec un outil diamanté pour la régénérer et stabiliser la vitesse de polissage ?
  5. Quel est l'avantage du CMP par rapport à l'aplanissement par refusion thermique ou par gravure en retrait (etch-back) ?