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CMP et nettoyage

Quel est le principal objectif du nettoyage par mélange acide sulfurique-peroxyde d'hydrogène (SPM) ?

  1. AÉliminer les composés organiques comme la résine
  2. BÉliminer l'oxyde natif
  3. CDéposer du cuivre
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Réponse : A. Éliminer les composés organiques comme la résine

Le SPM (H2SO4:H2O2, par exemple 4:1, vers 120 à 150 ℃) décompose et élimine les composés organiques comme les résidus de résine grâce au fort pouvoir oxydant de l'acide peroxomonosulfurique (acide de Caro) formé au mélange. Il sert au nettoyage après incinération (ashing) et au retrait de résine après implantation ionique ; si réactif qu'on l'appelle aussi « solution piranha », il exige des précautions de manipulation. Sa forte consommation d'acide sulfurique pousse à le remplacer par l'eau ozonée ou d'autres solutions.

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