Français
Menu

CMP et nettoyage

Quel est le principal objectif de l'utilisation d'IPA (alcool isopropylique) lors du séchage des plaquettes après nettoyage ?

  1. AEmpêcher l'apparition de marques d'eau (taches de séchage)
  2. BGraver la surface de la plaquette
  3. COxyder la surface de la plaquette
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : A. Empêcher l'apparition de marques d'eau (taches de séchage)

Si l'eau sèche naturellement à la surface, la silice et les salissures dissoutes restent et forment des marques d'eau (taches), en particulier sur les surfaces de silicium hydrophobes. L'IPA, miscible à l'eau et de tension superficielle environ trois fois plus faible, permet de remplacer l'eau pour sécher rapidement, ou d'écarter l'eau de la plaquette grâce à la différence de tension superficielle créée par la vapeur d'IPA soufflée sur le liquide (effet Marangoni), évitant les taches et l'effondrement des motifs fins.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur CMP et nettoyage

  1. Quelle méthode est utilisée pour détecter la fin de polissage en CMP ?
  2. Dans l'équation de Preston exprimant la vitesse de polissage en CMP, quelle grandeur est considérée comme proportionnelle à la vitesse de polissage ?
  3. Pour le CMP de formation des STI, quelles particules abrasives sont souvent utilisées pour obtenir une sélectivité de polissage élevée de l'oxyde par rapport au nitrure de silicium ?
  4. Quelle méthode de nettoyage applique des ultrasons de la bande des MHz au liquide de nettoyage pour éliminer les fines particules de la surface des plaquettes ?
  5. Quel est le principal objectif de l'utilisation d'eau ultrapure ozonée pour le nettoyage ?