CMP與清洗 使用硫酸與雙氧水的混合液（SPM）進行清洗的主要目的為下列何者？ A去除光阻等有機物 B去除原生氧化膜 C沉積銅膜 查看答案與解析 正確答案：A. 去除光阻等有機物 SPM（H2SO4:H2O2，例如4:1，約120～150 ℃）藉由混合時產生的過氧單硫酸（卡羅酸）之強氧化力，分解並去除光阻殘渣等有機物。常用於灰化後的清洗或離子佈植後的光阻去除，其反應性高到被稱為「食人魚溶液（piranha solution）」，操作時需特別小心。由於硫酸的用量大，也正在推動改用臭氧水等替代。