CMP et nettoyage

Quel avantage présente un équipement de nettoyage monoplaquette, qui traite les plaquettes une par une ?

  1. AIl traite simultanément un grand nombre de plaquettes
  2. BIl n'utilise aucun produit chimique
  3. CLa contamination croisée entre plaquettes est limitée et les conditions de traitement sont faciles à maîtriser plaquette par plaquette
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : C. La contamination croisée entre plaquettes est limitée et les conditions de traitement sont faciles à maîtriser plaquette par plaquette

Le nettoyage monoplaquette pulvérise les produits par une buse sur la plaquette en rotation et traite les plaquettes une par une ; la contamination se transmet difficilement d'une plaquette à l'autre, la température, le débit et la durée peuvent être finement réglés pour chaque plaquette, et les faces avant, arrière et le bord peuvent être nettoyés séparément. Le nettoyage par lots, qui immerge de nombreuses plaquettes dans des bains, offre un débit élevé et consomme moins de produits, mais comporte un risque de contamination croisée. La part du monoplaquette augmente dans les procédés avancés ; les principaux fabricants sont SCREEN et Tokyo Electron.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur CMP et nettoyage

  1. Quel est le principal objectif de l'utilisation d'IPA (alcool isopropylique) lors du séchage des plaquettes après nettoyage ?
  2. Quelle méthode est utilisée pour détecter la fin de polissage en CMP ?
  3. Dans l'équation de Preston exprimant la vitesse de polissage en CMP, quelle grandeur est considérée comme proportionnelle à la vitesse de polissage ?
  4. Pour le CMP de formation des STI, quelles particules abrasives sont souvent utilisées pour obtenir une sélectivité de polissage élevée de l'oxyde par rapport au nitrure de silicium ?
  5. Quelle méthode de nettoyage applique des ultrasons de la bande des MHz au liquide de nettoyage pour éliminer les fines particules de la surface des plaquettes ?