Was ist Thermischer Donator?

Sauerstoffcluster, die als Donatoren wirken, wenn CZ-Silizium um etwa 450 °C erhitzt wird. Da sie den spezifischen Widerstand des Wafers verändern, werden sie durch eine Behandlung bei höherer Temperatur aufgelöst.

Japanische Bezeichnung: サーマルドナー

Fachgebiet: Siliziumwafer

Verwandte Begriffe

Czochralski-Verfahren (CZ-Verfahren) DZ (Denuded Zone, defektfreie Zone) FZ-Verfahren (Zonenschmelzen) Gettern (Getterung) Ingot (Kristallblock) Kristallorientierung MCZ-Verfahren (CZ mit Magnetfeld) Monitorwafer Necking (Halsbildung) Sauerstoffausscheidungen (BMD)

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