Was ist FZ-Verfahren (Zonenschmelzen)?

Ein Verfahren, bei dem eine Zone eines Polysiliziumstabs geschmolzen und diese Schmelzzone weitergeführt wird, um einen Einkristall zu bilden. Ohne Tiegel ist der Sauerstoffgehalt niedrig, was sich für hochohmige Wafer eignet.

Japanische Bezeichnung: FZ法(フローティングゾーン法)

Fachgebiet: Siliziumwafer

Vergleiche mit diesem Begriff

Verwandte Begriffe

Czochralski-Verfahren (CZ-Verfahren) DZ (Denuded Zone, defektfreie Zone) Gettern (Getterung) Ingot (Kristallblock) Kristallorientierung MCZ-Verfahren (CZ mit Magnetfeld) Monitorwafer Necking (Halsbildung) Sauerstoffausscheidungen (BMD) Segregationskoeffizient

Zurück zum Glossar