Was ist Photomaske (Retikel)?

Vorlage für die Belichtung, meist ein lichtblockierendes Muster auf einem Quarzsubstrat (bei EUV reflektierend). Bei verkleinernden Scannern wird sie viermal größer als das Muster auf dem Wafer gefertigt.

Japanische Bezeichnung: フォトマスク(レチクル)

Fachgebiet: Lithografie

Verwandte Begriffe

ArF-Excimerlaser Bodenseitige Antireflexschicht (BARC) Chemisch verstärkter Resist EUV-Lithografie Fotolack High-NA-EUV Immersionslithografie Linienkantenrauheit (LER) Mehrfachstrukturierung (Multiple Patterning) Nanoimprint-Lithografie

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