Ätzen

Wie heißt der Prozess, bei dem Fotoresist mit Sauerstoffplasma u. Ä. verascht und entfernt wird?

  1. AAshing
  2. BAnnealing
  3. CDicing
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Antwort: A. Ashing

Ashing ist ein Prozess, bei dem organische Bestandteile des Resists mit Sauerstoffplasma u. Ä. oxidiert und als CO2 und H2O entfernt werden; der Name rührt vom Veraschen (ash) her. Er dient dazu, Resist zu entfernen, der als Maske für Ätzen oder Ionenimplantation ausgedient hat, und anschließend werden Rückstände durch chemische Reinigung beseitigt. Um Schäden zu vermeiden, werden häufig Verfahren verwendet, die nur Radikale einwirken lassen; auf Low-k-Filmen kommt statt Sauerstoff auch wasserstoffbasiertes Plasma zum Einsatz.

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