Ätzen

Welche Aussage zum Atomlagenätzen (ALE) ist richtig?

  1. AMit einem Prozessschritt werden einige µm schnell abgetragen
  2. BOberflächenmodifikation und Abtragung werden abwechselnd wiederholt, sodass die Ätzmenge auf Atomlagenebene gesteuert wird
  3. CEs ist ein isotropes Nassätzen mit einer Chemikalie
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Antwort: B. Oberflächenmodifikation und Abtragung werden abwechselnd wiederholt, sodass die Ätzmenge auf Atomlagenebene gesteuert wird

Beim ALE wird ein selbstlimitierender Prozess wiederholt: Zuerst wird nur eine einzige Oberflächenlage durch Adsorption von Chlor u. Ä. zur Reaktion gebracht und modifiziert, dann wird genau diese Lage mit Ionen niedriger Energie o. Ä. abgetragen. Da die pro Zyklus abgetragene Menge mit etwa 0,1 bis 0,5 nm konstant ist, lässt sie sich auf Atomlagenebene präzise steuern, die Oberflächenschäden sind gering, und auch Geschwindigkeitsunterschiede durch Strukturdichte sind klein. Man kann es als Ätzversion der ALD bezeichnen; es wird bei GAA und der Bearbeitung um das Gate herum bereits eingesetzt.

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