Schichtabscheidung (CVD, PVD)

Welche flüssige siliziumorganische Verbindung wird als Ausgangsstoff bei der CVD von Siliziumoxid häufig verwendet?

  1. AWolframhexafluorid (WF6)
  2. BTEOS (Tetraethoxysilan)
  3. CTrimethylgallium
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Antwort: B. TEOS (Tetraethoxysilan)

TEOS (Si(OC2H5)4) ist eine bei Raumtemperatur flüssige siliziumorganische Verbindung, die verdampft und als CVD-Ausgangsstoff verwendet wird. Im Vergleich zum selbstentzündlichen Silan ist sie sicherer zu handhaben; sie zersetzt sich leicht an der Oberfläche und hat einen guten Umgriff, sodass Oxidschichten mit guter Kantenbedeckung entstehen. Auch die Verfahren sind vielfältig, etwa thermische CVD (etwa 700 °C), PECVD (etwa 400 °C) und Atmosphärendruck-CVD in Kombination mit Ozon; TEOS-Oxid wird breit für Zwischenisolatoren und Seitenwandabstandshalter verwendet.

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