Schichtabscheidung (CVD, PVD)

Welches Gas wird als Ausgangsstoff bei der CVD von Wolfram verwendet?

  1. ATEOS
  2. BSilan (SiH4)
  3. CWolframhexafluorid (WF6)
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Antwort: C. Wolframhexafluorid (WF6)

Bei der CVD von Wolfram wird WF6 mit Wasserstoff reduziert (WF6 + 3H2 → W + 6HF), um die Wolframschicht abzuscheiden; für die anfängliche Keimbildung wird z. B. Silan verwendet. Wegen der guten Kantenbedeckung lassen sich auch schmale Kontaktlöcher mit einem Durchmesser von einigen zehn nm füllen, und Wolfram hat einen hohen Schmelzpunkt und ist widerstandsfähig gegen Degradation durch Stromfluss. Es wird daher für Kontaktstecker (Plugs) zwischen Transistor und Leitbahn sowie für die Wortleitungen von 3D NAND verwendet.

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