공정 재료(가스와 케미칼)

반도체 공장에서 가장 대량으로 쓰이는 가스 중 하나로, 퍼지나 분위기 가스로 배관을 통해 공급되는 것은 무엇입니까?

  1. A포스핀
  2. B질소(N2)
  3. C삼불화질소(NF3)
정답과 해설 보기

정답: B. 질소(N2)

질소는 불활성이고 저렴하여, 장치와 배관의 퍼지, FOUP과 장치 내 분위기의 치환, 진공 펌프의 보호 등에 대량으로 쓰입니다. 대규모 공장에서는 공기 분리 장치를 부지 내나 인접지에 두고 배관으로 공급합니다. 대량으로 쓰기 때문에 좁은 장소에 누출되면 산소 농도가 18% 미만으로 떨어져 산소 결핍증의 위험이 있습니다. 포스핀이나 NF3는 특정 공정에서만 쓰는 특수 재료 가스입니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

공정 재료(가스와 케미칼)의 다른 문제

  1. ArF 액침 노광에서 포토레지스트 위에 도포하여 액침수와 레지스트가 직접 닿지 않게 하는 막은 무엇입니까?
  2. Low-k 층간 절연막으로 쓰이는 대표적인 재료는 무엇입니까?
  3. 열처리로의 반응관이나 웨이퍼를 올리는 지그에 널리 쓰이는, 고순도이고 내열성이 뛰어난 재료는 무엇입니까?
  4. 포토레지스트의 현상에 일반적으로 쓰이는 수용액은 무엇입니까?
  5. 반도체 현상액에 수산화나트륨 등이 아니라 TMAH 같은 유기 알칼리가 쓰이는 주된 이유는 무엇입니까?