微影
在塗佈光阻之前，以HMDS等處理晶圓表面的主要目的是下列何者？
- A使晶圓表面疏水，提高光阻的附著性，防止顯影過程中剝落
- B提高光阻的靈敏度
- C使表面具有導電性
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正確答案：A. 使晶圓表面疏水，提高光阻的附著性，防止顯影過程中剝落
氧化膜表面有Si-OH基，容易吸附水分，若直接塗佈，光阻無法良好附著，顯影液會滲入而使圖案剝落。以HMDS（六甲基二矽氮烷）的蒸氣處理後，表面的OH基會被三甲基矽基取代而變得疏水，光阻的附著性隨之提高。可用水滴的接觸角確認處理的效果。在使用BARC的製程中，BARC也兼具這個作用。
- A. 正確。使表面疏水化以提高附著性。
- B. 這不是改變光阻靈敏度的處理。
- C. 這不是為了使其導電的處理。