配線製程
關於多層導線中的導孔(via),下列說明何者正確?
- A電性連接上下導線層之間的導體
- B使同一層中相鄰導線絕緣的膜
- C連接晶片與封裝的金屬線
查看答案與解析
正確答案:A. 電性連接上下導線層之間的導體
導孔是在層間絕緣膜所開的孔中填入金屬,連接上層與下層導線的垂直導體。先進產品的直徑約20 nm,極為細小,每個晶片有數十億個以上。連接電晶體與最下層導線的則稱為接點(contact)。雙鑲嵌法會以Cu一次填滿導線溝槽與導孔。導孔的電阻與斷路不良,會大幅影響性能與良率。
配線製程
正確答案:A. 電性連接上下導線層之間的導體
導孔是在層間絕緣膜所開的孔中填入金屬,連接上層與下層導線的垂直導體。先進產品的直徑約20 nm,極為細小,每個晶片有數十億個以上。連接電晶體與最下層導線的則稱為接點(contact)。雙鑲嵌法會以Cu一次填滿導線溝槽與導孔。導孔的電阻與斷路不良,會大幅影響性能與良率。