配線製程

關於多層導線中的導孔(via),下列說明何者正確?

  1. A電性連接上下導線層之間的導體
  2. B使同一層中相鄰導線絕緣的膜
  3. C連接晶片與封裝的金屬線
查看答案與解析

正確答案:A. 電性連接上下導線層之間的導體

導孔是在層間絕緣膜所開的孔中填入金屬,連接上層與下層導線的垂直導體。先進產品的直徑約20 nm,極為細小,每個晶片有數十億個以上。連接電晶體與最下層導線的則稱為接點(contact)。雙鑲嵌法會以Cu一次填滿導線溝槽與導孔。導孔的電阻與斷路不良,會大幅影響性能與良率。

練習這個領域 前往領域頁面

配線製程的其他題目

  1. 在不改變導線剖面形狀與導線間距的情況下,將導線長度加倍,導線的RC延遲約變為幾倍?
  2. 在電晶體的源極、汲極或閘極表面形成NiSi等金屬矽化物,目的為下列何者?
  3. 連接電晶體與最下層導線的接觸孔(contact hole),其填充一直廣泛使用的金屬為下列何者?
  4. Cu導線的寬度變得非常細時,導線的有效電阻率上升,主要原因為下列何者?
  5. 多層導線中,越上層的導線越粗越厚,主要原因為下列何者?