先進電晶體(FinFET與GAA)

在鰭片高度 50 nm、寬度 6 nm 的 FinFET 中,每根鰭片的有效通道寬度(閘極包覆的周長)最接近下列何者?

  1. A106 nm
  2. B6 nm
  3. C56 nm
查看答案與解析

正確答案:A. 106 nm

由於閘極包覆鰭片的兩側面與上表面,每根的有效通道寬度為 2 × 高度 + 寬度 = 2 × 50 + 6 = 106 nm。若鰭片節距為 30 nm,則可得到相同面積下平面型寬度的 3 倍以上,鰭片越高,越能在不增加占用面積的情況下增加電流。不過,若太高,細鰭片會倒塌或加工產生變異,因此高度採用 50 nm 左右。

  • A. 正確。2 × 50 + 6 = 106 nm。
  • B. 6 nm 只是鰭片的寬度,沒有計入側面。
  • C. 56 nm 是只計入單側側面與上表面的值。
練習這個領域 前往領域頁面

先進電晶體(FinFET與GAA)的其他題目

  1. 為了在 FinFET 中充分抑制短通道效應,一般對鰭片寬度的要求為何?
  2. 在 High-k/金屬閘極電晶體中,常在矽與 High-k 膜(鉿系氧化膜等)之間設置極薄的 SiO2 等層,其原因為何?
  3. InGaAs 等 III-V 族化合物半導體被研究作為未來 nMOS 通道材料,其主要原因為何?
  4. 下列關於電晶體性能指標「Ion/Ioff 比」的說明,何者正確?
  5. 從平面型電晶體轉換為 FinFET 後,次臨界擺幅(SS)一般有何變化?

這個領域的比較