300 mm晶圓的矽磊晶成長中，成為主流的反應爐形式為下列何者？

正確答案：A. 逐片處理晶圓的單晶圓式反應爐

300 mm晶圓的磊晶成長，主流是單晶圓式反應爐，以隔著石英窗的鹵素燈逐片快速加熱晶圓，並精密控制氣流與溫度。藉由旋轉晶圓提高均勻性，將膜厚與電阻率的變異抑制在±1～2%左右。條件的調整也容易，且加熱・冷卻快，因此熱預算也能降低。代表性的廠商有美國的Applied Materials與ASM等。

• A. 正確。單晶圓式反應爐是主流。
• B. 浸入液體的方式是液相成長，不用於矽LSI用的磊晶。
• C. 批次式爐用於氧化或擴散等製程，但300 mm的磊晶以單晶圓式為主流。