300 mmウエハのシリコンエピタキシャル成長で主流となっている反応炉の形式はどれか。

正解：A. ウエハを1枚ずつ処理する枚葉式の反応炉

300 mmウエハのエピタキシャル成長では、ウエハを1枚ずつランプで急速に加熱し、ガスの流れや温度を精密に制御する枚葉式の反応炉が主流です。膜厚や抵抗率の均一性を高めやすく、処理ごとの条件の調整もしやすくなります。

• A. 正しい。枚葉式の反応炉が主流です。
• B. 液体に浸す方式は液相成長で、シリコンのLSI用エピでは使いません。
• C. バッチ式の炉は酸化や拡散などで使われますが、300 mmのエピでは枚葉式が主流です。