박막 증착(CVD와 PVD)

CVD 장비에서 원료 가스를 웨이퍼 위쪽에서 다수의 작은 구멍을 통해 균일하게 공급하는 부품은?

  1. A샤워헤드
  2. B서셉터
  3. C로드 포트
정답과 해설 보기

정답: A. 샤워헤드

샤워헤드는 수백~수천 개의 작은 구멍이 있는 판으로, 원료 가스를 웨이퍼 전면에 균일하게 분사합니다. 구멍의 배치와 크기 분포로 막 두께 균일성을 조정하며, 플라즈마 CVD에서는 상부 전극을 겸합니다. 온도를 제어하여 헤드 자체에 막이 쌓여 파티클이 되는 것을 방지합니다. 웨이퍼를 올려 가열하는 대는 서셉터(히터), 웨이퍼가 담긴 캐리어를 놓는 곳은 로드 포트입니다.

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