以稀釋氫氟酸最後清洗過的矽表面，其狀態下列何者正確？

正確答案：A. 表面由氫終端，呈疏水性

以稀釋氫氟酸去除氧化膜的矽表面，會成為Si-H鍵的氫終端狀態，呈排斥水的疏水性。這個表面在大氣中數十分鐘至數小時內不易繼續氧化，另一方面，由於呈疏水性，微粒容易附著，也容易產生水痕。因此要管理到閘極氧化或磊晶成長等下一個步驟之前的等待時間（Q-time）。

• A. 正確。由氫終端而呈疏水性。
• B. 氫氟酸清洗不會使表面被金屬覆蓋。
• C. 氫氟酸會去除氧化膜，因此不會被氧化膜覆蓋。