희석 불산으로 마지막에 세정한 실리콘 표면의 상태로 올바른 것은?

정답: A. 표면이 수소로 종단되어 소수성이 된다

희석 불산으로 산화막을 제거한 실리콘 표면은 Si-H 결합으로 수소 종단된 상태가 되어 물을 튕기는 소수성이 됩니다. 이 표면은 대기 중에서도 수십 분~수 시간 동안은 산화가 잘 진행되지 않는 한편, 소수성이라 파티클이 부착되기 쉽고 워터마크도 생기기 쉬운 면이 있습니다. 그래서 게이트 산화나 에피택시 성장 등 다음 공정까지의 대기 시간(Q타임)을 관리합니다.

• A. 올바릅니다. 수소로 종단되어 소수성이 됩니다.
• B. 불산 세정으로 금속에 덮이는 일은 없습니다.
• C. 불산은 산화막을 제거하므로 산화막으로 덮이는 일은 없습니다.