CMP與清洗

下列關於CMP中產生之「碟化(dishing)」的說明,何者正確?

  1. A研磨墊磨耗而變平的現象
  2. B研磨液的粒子附著殘留在晶圓上的現象
  3. C寬幅配線部分的中央被過度研磨而低於周圍,呈碟狀凹陷的現象
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正確答案:C. 寬幅配線部分的中央被過度研磨而低於周圍,呈碟狀凹陷的現象

碟化是指在寬幅的金屬配線或焊墊上,較軟的金屬中央部分被磨掉的量多於周圍的絕緣膜,呈碟子(dish)狀凹陷的現象,寬度愈寬愈嚴重。這會使配線變薄而電阻增加,或使上層殘留凹凸不平。配線密集的區域連同絕緣膜整體被過度磨除的現象則稱為侵蝕(erosion)。設計上可藉由限制配線寬度的上限,或以狹縫分割較粗的配線來加以抑制。

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