在使用化學放大型光阻的曝光區域，特別嚴格管理氨或胺等鹼性分子態污染的理由為何？

正確答案：C. 因為曝光產生的酸被中和，導致圖案上部像屋簷般突出（T-top）等不良

在化學放大型光阻中，曝光產生的極微量的酸會作為觸媒，於曝光後烘烤（PEB）時改變溶解性。空氣中的鹼性物質進入光阻表面時，酸會被中和，只有表面附近的反應無法進行，使圖案上部形成突出的T-top形狀等。即使是ppb等級的氨也會產生影響，因此曝光機與塗佈顯影機會使用化學濾網。

• A. 顏色改變並不是問題所在。
• B. 透鏡不會熔化。
• C. 正確。酸被中和造成的圖案不良才是問題。