クリーンルーム・製造装置
化学増幅型レジストを使う露光エリアで、アンモニアやアミンなどの塩基性の分子状汚染を特に厳しく管理する理由はどれか。
- Aレジストの色が変わるため
- B露光装置のレンズが溶けるため
- C露光で発生した酸が中和され、パターンの上部が庇のように張り出す(Tトップ)などの不良が起こるため
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正解：C. 露光で発生した酸が中和され、パターンの上部が庇のように張り出す(Tトップ)などの不良が起こるため
化学増幅型レジストでは、露光で発生したごく微量の酸が触媒として働き、露光後の加熱(PEB)で溶解性を変えます。空気中の塩基性物質がレジストの表面に入ると酸が中和され、表面付近だけ反応が進まずに、パターンの上部が張り出すTトップ形状などになります。そのため露光装置や塗布現像装置にはケミカルフィルタが使われます。
- A. 色の変化が問題なのではありません。
- B. レンズが溶けることはありません。
- C. 正しい。酸の中和によるパターン不良が問題になります。