電荷トラップ型セルとは
でんかとらっぷがたせる
フローティングゲートの代わりに、シリコン窒化膜などの絶縁膜の中のトラップに電子を蓄えるフラッシュメモリのセル。3D NANDで主に使われる。
この用語の分野: SRAM・フラッシュメモリ
でんかとらっぷがたせる
フローティングゲートの代わりに、シリコン窒化膜などの絶縁膜の中のトラップに電子を蓄えるフラッシュメモリのセル。3D NANDで主に使われる。
この用語の分野: SRAM・フラッシュメモリ
電荷トラップ型セルでは、導電性のフローティングゲートの代わりに、絶縁体のシリコン窒化膜中の捕獲準位(トラップ)に電子を蓄えます。
3D NANDで多く使われている電荷トラップ型セルで、電荷を蓄える層の材料として一般的なものはどれか。3D NAND フローティングゲート ウェアレベリング SLC(シングルレベルセル) NVMe FNトンネル電流(ファウラー・ノルドハイム) 書き込み増幅(ライトアンプリフィケーション) ガベージコレクション TLC(トリプルレベルセル) TRIM