ヒ素やアンチモンを高濃度に添加した低抵抗のn⁺シリコンウエハの主な用途として正しいものはどれか。

正解：C. 低濃度のエピタキシャル層を成長させる基板や、縦型パワーデバイスのドレイン側の基板

高濃度で低抵抗のn⁺ウエハは、その上に低濃度のエピタキシャル層を成長させたエピウエハの基板として使われます。縦型のパワーMOSFETなどでは、電流が基板を縦に流れるため、基板の抵抗を低くするとオン抵抗を下げられます。

• A. 受光層には低濃度の層が使われます。
• B. 反射防止膜は窒化膜などで、基板の役割ではありません。
• C. 正しい。エピウエハの基板や縦型パワー素子の基板に使われます。