グラフェンなどの2次元材料で覆った基板の上に結晶を成長させ、成長した膜を基板からはがして再利用できるようにする研究段階の技術はどれか。

正解：A. リモートエピタキシー

リモートエピタキシーでは、基板を原子数層のグラフェンなどで覆い、その上に結晶を成長させます。基板の結晶の情報はグラフェンを通して伝わるため単結晶が得られる一方、膜と基板は強く結合しないので、成長した膜をはがして基板を再利用できると期待されています。

• A. 正しい。2次元材料を介して成長させ、膜をはがせるようにする技術です。
• B. 熱拡散は不純物を熱で拡散させる工程です。
• C. 陽極接合はシリコンとガラスを電圧と熱で接合する方法です。