Het vaststellen van het moment waarop bij etsen de beoogde laag is weggeëtst. Vaak wordt hiervoor de verandering in het emissiespectrum van het plasma bewaakt.
Japanse benaming: 終点検出
“Eindpuntdetectie” komt voor in 3 oefenvragen uit 1 onderwerpen, bijv. Etsen.
Vakgebied: Etsen
Antwoord: B. De verandering van het emissiespectrum van het plasma bewaken
Wanneer de film die wordt geëtst verdwenen is en de ondergrond zichtbaar wordt, veranderen de soort en hoeveelheid reactieproducten in het plasma en verandert de emissie-intensiteit bij bepaalde golflengten. Bij het etsen van oxide neemt bijvoorbeeld de emissie van CO (483 nm) af. Door deze verandering met optische-emissiespectroscopie (OES) te bewaken, kan het eindpunt van het etsen in real time worden gedetecteerd. Is het blootgelegde oppervlak zeer klein, dan is het signaal zwak en worden ook methoden zoals laagdiktemeting met een interferometer gebruikt.
Door spreiding in etssnelheid en laagdikte over de wafer en door film die op de zijwanden van trappen achterblijft, kan op het moment van eindpuntdetectie op sommige plaatsen nog film achterblijven.
Hoe heet het nog gedurende een bepaalde tijd doorgaan met e…In de apparatuur worden deze tijd en eindpuntdetectie gecombineerd beheerst.
Hoe dik is de film die wordt weggeëtst als 3 minuten wordt …Numerieke apertuur (NA) Overetsen Droog etsen Plasma Selectiviteit ALE (atomic layer etching) Anisotroop etsen Antenne-effect ARDE (aspect-ratio-afhankelijk etsen) Ashing