Gas, een verbinding van arseen en waterstof. Gebruikt voor het inbrengen van n-type onzuiverheid (arseen) en voor de groei van verbindingshalfgeleiders zoals GaAs. Zeer giftig.
Japanse benaming: アルシン(AsH3)
“Arsine (AsH3)” komt voor in 7 oefenvragen uit 4 onderwerpen, bijv. Procesmaterialen (gassen, chemicaliën), Milieu en veiligheid, Verbindingshalfgeleiders.
Vakgebied: Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)
Antwoord: B. Ze zijn zeer giftig en vereisen streng lekbeheer
Fosfine en arsine zijn zo giftig dat een toelaatbare concentratie van 0,05 ppm of lager geldt. Ze worden streng beheerd met een combinatie van gascilinderkasten, lekdetectoren, noodafsluiters en afgasreinigers. Ook worden veel containers gebruikt waarin het gas aan een poreus adsorptiemateriaal is geadsorbeerd en bij een druk lager dan de atmosferische druk wordt geleverd, zodat het bij lekkage moeilijk naar buiten komt. Het zijn geen onbrandbare, onschadelijke gassen; fosfine is bovendien brandbaar.
Antwoord: A. Ook als het vat lekt, spuit het gas niet krachtig naar buiten
Bij hogedrukcilinders kan, wanneer een afsluiter of leiding breekt, in één keer een grote hoeveelheid gas vrijkomen. Bij vaten met subatmosferische levering, waarbij het gas aan een poreus adsorptiemateriaal is geadsorbeerd en onder atmosferische druk of lager wordt opgeslagen, stroomt bij een lek juist lucht naar binnen, zodat het risico op grootschalig vrijkomen van giftig gas sterk afneemt. Het gas wordt gebruikt door het met een vacuümpomp aan de apparatuurzijde te onttrekken. Omdat de giftigheid van het gas zelf niet verandert, blijven detectie en afzuiging nodig.
Fosfine en arsine zijn zo giftig dat een toelaatbare concentratie van 0,05 ppm of lager geldt.
Welke uitspraak over de kenmerken van fosfine (PH3) en arsi…Het bij de productie gebruikte arsinegas (AsH3) is nog giftiger en vereist strikte gasdetectie en afgasbehandeling.
Waarom is voorzichtigheid geboden bij de behandeling van sl…Voor fosfor wordt fosfine (PH3), voor arseen arsine (AsH3) en voor germanium onder meer GeF4 gebruikt.
Welk gas wordt kenmerkend gebruikt in de ionenbron van een …Fosfine en arsine zijn de grondstoffen voor de n-type onzuiverheden fosfor en arseen.
Welk bronmateriaal is juist voor het inbrengen van p-type o…Ammoniak is de grondstof voor stikstof en arsine die voor arseen.
Welk gas wordt bij epitaxiale groei van SiGe gebruikt als g…Fosfine (PH3) Epitaxiale groei GaAs (galliumarsenide) Ionenimplantatie CVD SiGe (silicium-germanium) Silaan (SiH4) Onderste explosiegrens (LEL) Oplosbaarheid (solid solubility) Massaflowcontroller (MFC)