Een wafer wordt thermisch behandeld, zodat zuurstof nabij het oppervlak naar buiten diffundeert en aan het oppervlak waar de componenten worden gemaakt een laag met weinig defecten ontstaat. Hoe heet deze laag?

Antwoord: B. DZ (denuded zone, defectvrije zone)

Bij warmtebehandeling bij hoge temperatuur van 1100 °C of hoger diffundeert zuurstof nabij het oppervlak naar buiten, waardoor aan het oppervlak een defectvrije zone (DZ: denuded zone) zonder zuurstofprecipitaten van enkele tientallen µm ontstaat. Worden daarna met warmtebehandelingen bij lage en middelhoge temperatuur precipitaten in het binnenste gevormd, dan vormt dit de getterlaag. De componenten worden dus op het defectvrije oppervlak gemaakt en de metaalverontreiniging wordt in het binnenste ingevangen. Tegenwoordig worden ook wafers gebruikt waarbij deze structuur wordt gemaakt met gloeien in waterstof of argon en snelle thermische processen.