실리콘 웨이퍼

웨이퍼를 열처리하여 표면 부근의 산소를 바깥으로 확산시켜, 디바이스를 만드는 표면에 결함이 적은 층을 만든다. 이 층을 무엇이라 부르는가?

  1. A매립 산화막(BOX층)
  2. BDZ(무결함층)
  3. CLDD
정답과 해설 보기

정답: B. DZ(무결함층)

1100 ℃ 이상의 고온에서 열처리하여 표면 부근의 산소를 바깥으로 확산시키면, 표면에 산소 석출물이 없는 무결함층(DZ: Denuded Zone)이 수십 µm 생깁니다. 이후 저온·중온 열처리로 내부에 석출물을 만들면 게터링층이 됩니다. 디바이스는 결함이 없는 표면에 만들고, 금속 오염은 내부에서 붙잡는 구조입니다. 최근에는 수소나 아르곤 분위기의 어닐링이나 급속 열처리로 이 구조를 만든 웨이퍼도 사용됩니다.

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