Siliciumwafers

Welke methode wordt gebruikt om de soortelijke weerstand van een wafer contactloos te meten?

  1. ASIMS
  2. BTEM-waarneming
  3. CMeting met wervelstromen
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Meting met wervelstromen

Wanneer een wisselend magnetisch veld wordt aangelegd, vloeien wervelstromen in de wafer waarvan de grootte afhangt van het geleidingsvermogen (vierkantsweerstand). Door dit met een spoel te detecteren kan de soortelijke weerstand worden gemeten zonder de wafer aan te raken. In tegenstelling tot de vierpuntsmethode met naalden beschadigt dit het oppervlak niet en veroorzaakt het geen verontreiniging, zodat het wordt gebruikt bij ontvangstinspectie van wafers en bij het meten van de dikte van metaallagen (omgerekend uit de vierkantsweerstand). Met mapping kan ook de verdeling binnen de wafer worden beoordeeld.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Siliciumwafers

  1. Welke methode zet FZ-silicium door bestraling met neutronen om, waarbij een deel van het silicium in fosfor verandert tot homogeen n-type?
  2. Welke methode onderdrukt bij de CZ-methode de convectie van de smelt door een magneetveld aan te leggen op de kroes, om onder meer de zuurstofconcentratie te regelen?
  3. Welke omstandigheden worden tijdens het trekken voornamelijk aangepast om de diameter van een monokristallijne siliciumingot constant te houden?
  4. Welke reden waarom SiC-wafers moeilijk te produceren en duur zijn, is juist?
  5. Hoeveel inch wordt een siliciumwafer met een diameter van 300 mm bij benadering genoemd?

Vergelijkingen bij dit onderwerp